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用參考試塊測定超聲波探傷儀

 一、參考試塊(kuai)的(de)用(yong)途 1.測定儀(yi)器(qi)和(he)探頭(tou)的(de)性能 2.在探傷過程中,調整(zheng)和(he)控制(zhi)(zhi)綜(zong)合靈(ling)敏度不發生變化(hua)。 3.復查和(he)控制(zhi)(zhi)以前使用(yong)儀(yi)器(qi)的(de)標準(工作狀態)。 4.區別材(cai)料的(de)性質

  參(can)考(kao)試塊(kuai)(kuai)是生產和使用(yong)儀(yi)器時,檢查和控制其(qi)質量及工作狀態的(de)重要(yao)工具。現在通用(yong)的(de)是I.I.W(或(huo)CSK-3)型參(can)考(kao)試塊(kuai)(kuai)。參(can)考(kao)試塊(kuai)(kuai)可以測定儀(yi)器的(de)靈敏度、分(fen)辨(bian)力(li)、盲區(qu)、掃(sao)描線線性、放大器線性、斜(xie)(xie)探(tan)(tan)頭標志線、折射角度、方向性、斜(xie)(xie)探(tan)(tan)頭在熒光屏上的(de)真零(ling)點(即波束離開斜(xie)(xie)探(tan)(tan)頭有機玻璃時的(de)零(ling)點)等(deng)。而靈敏度、盲區(qu)、分(fen)辨(bian)力(li)取決(jue)于儀(yi)器及探(tan)(tan)頭的(de)性能。

  二、時(shi)間(jian)基線(xian)(掃描(miao)線(xian))線(xian)性(xing)的(de)(de)測(ce)定  用直探(tan)頭(縱波)測(ce)定,發射波調(diao)整在(zai)熒(ying)光屏的(de)(de)零點上。例如時(shi)間(jian)基線(xian)為0~100毫米(mi)(mi)時(shi),將探(tan)頭放(fang)在(zai)試塊的(de)(de)A位(wei)置,以(yi)25毫米(mi)(mi)的(de)(de)多次(ci)反(fan)射波進行校正。微調(diao)掃描(miao)速度(du),使**次(ci)反(fan)射波出現(xian)在(zai)25處,如果(guo)掃描(miao)線(xian)性(xing)好,**、三、四(si)次(ci)應分別(bie)與(yu)50、75、100刻(ke)度(du)重(zhong)合(he)。否則多次(ci)反(fan)射波不(bu)成(cheng)比(bi)例的(de)(de)出現(xian)在(zai)熒(ying)光屏上。

  三、放大器(qi)線性的測(ce)(ce)定  如下圖所示(shi),將超聲(sheng)波探傷儀探頭放在F位(wei)置的有(you)機玻(bo)璃塊上(shang)探測(ce)(ce),有(you)機玻(bo)璃的厚度(du)相(xiang)當于50毫米鋼的厚度(du)。測(ce)(ce)定時,靈敏(min)度(du)的控制由*小開(kai)至*大,高穿透(tou)力儀器(qi)有(you)6~10個反(fan)射(she)波,低(di)穿透(tou)力的儀器(qi)只有(you)2~4個反(fan)射(she)波。

  相對(dui)(dui)靈(ling)敏(min)度(du)(du)測定,如下圖,將超聲波(bo)(bo)探傷儀探頭放在(zai)C位(wei)置(zhi)。靈(ling)敏(min)度(du)(du)控制*初放在(zai)*小位(wei)置(zhi),移(yi)動探頭,直到熒光屏上出現1.5毫米洞反(fan)射回的(de)波(bo)(bo)為止。在(zai)給定的(de)靈(ling)敏(min)度(du)(du)控制位(wei)置(zhi)下,反(fan)射的(de)高度(du)(du)就是相對(dui)(dui)靈(ling)敏(min)度(du)(du)。

                                                                                            

  五、盲區測(ce)定(ding) 如下(xia)圖所示,將(jiang)探頭放(fang)在D位置(zhi)上,可測(ce)的(de)盲區小(xiao)于(yu)10毫(hao)米。將(jiang)探頭放(fang)在E位置(zhi)上,可測(ce)的(de)盲區小(xiao)于(yu)5毫(hao)米。

  六、分辨(bian)力(li)(li)的(de)測定 下圖探頭在G位置,可測定分辨(bian)力(li)(li)。探頭移動,使之在85、91和100刻度處獲得三個(ge)回波(bo)。如果三個(ge)波(bo)是分離的(de),則(ze)分辨(bian)力(li)(li)好。否則(ze),分辨(bian)力(li)(li)差。 

  七、斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)波(bo)束零(ling)點(dian)(dian)線(xian)的(de)(de)校正 斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)有機玻璃楔塊(kuai)上的(de)(de)零(ling)點(dian)(dian)線(xian)和壓(ya)電(dian)晶片(pian)的(de)(de)中心線(xian)重合。斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)在H位置移動,直(zhi)到(dao)從(cong)100毫米(mi)弧(hu)度處獲得(de)*大的(de)(de)反射波(bo)為止,如斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)零(ling)點(dian)(dian)線(xian)與試塊(kuai)上0點(dian)(dian)重合,則斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)的(de)(de)零(ling)點(dian)(dian)線(xian)正確。否則,需移動探(tan)(tan)頭(tou)(tou)的(de)(de)晶片(pian),直(zhi)至(zhi)重合為止。此(ci)時斜探(tan)(tan)頭(tou)(tou)的(de)(de)零(ling)點(dian)(dian)線(xian)即為聲波(bo)主線(xian)的(de)(de)入射點(dian)(dian)。

                                                                       

  八、折射(she)(she)角(jiao)的(de)(de)測定 如下圖示,探頭在J位置,移動超聲波探傷儀探頭,直到獲得從有機玻(bo)璃圓(yuan)柱(zhu)塊(kuai)處反(fan)射(she)(she)回(hui)的(de)(de)波幅*高為(wei)止,此時探頭零點(dian)(dian)線在試塊(kuai)上所指的(de)(de)角(jiao)度(du)即為(wei)其折射(she)(she)角(jiao)度(du)(入射(she)(she)點(dian)(dian)至有機玻(bo)璃圓(yuan)柱(zhu)塊(kuai)中心(xin)的(de)(de)連(lian)線與零點(dian)(dian)線的(de)(de)夾(jia)角(jiao)),試塊(kuai)上刻有幾個(ge)固(gu)定的(de)(de)折射(she)(she)角(jiao)。

                                                                                   

  九、斜探(tan)(tan)頭真零(ling)點的(de)校(xiao)正 斜探(tan)(tan)頭聲(sheng)波(bo)(bo)經過有(you)機玻璃延遲一段時間(jian)后(hou),射(she)入工件,這一段時間(jian)需在熒光屏零(ling)點刻度上予(yu)以校(xiao)正。如下(xia)圖(tu)示,探(tan)(tan)頭在K處移動,直到獲得從100毫米(mi)(mi)弧度反(fan)射(she)回的(de)波(bo)(bo)幅*高為止,然后(hou)調(diao)(diao)整(zheng)掃描(miao)線的(de)“水平位移”及“細調(diao)(diao)”,使(shi)兩個(ge)反(fan)射(she)波(bo)(bo)出現在40°及90°處為止。刻度40°的(de)波(bo)(bo)系從100毫米(mi)(mi)處直接反(fan)射(she)回探(tan)(tan)頭的(de)波(bo)(bo)(路徑(jing)200毫米(mi)(mi)),而90°處的(de)波(bo)(bo)系由100毫米(mi)(mi)處及25毫米(mi)(mi)槽處往復反(fan)射(she)回至(zhi)探(tan)(tan)頭的(de)波(bo)(bo)(路徑(jing)450毫米(mi)(mi))。此時,熒光屏的(de)零(ling)點刻度即(ji)為聲(sheng)波(bo)(bo)離開斜探(tan)(tan)頭有(you)機玻璃楔(xie)塊時的(de)零(ling)點。

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