涂層測厚儀的選型及影響因素
用戶可以根據測量的需要選用不同的測厚儀，磁性測厚儀和渦(wo)流測(ce)厚(hou)(hou)儀一般測(ce)量的(de)(de)厚(hou)(hou)度適(shi)用(yong)0-5毫米，這類儀器又分探頭(tou)與主機一體(ti)型，探頭(tou)與主機分離(li)型，前者操作(zuo)便(bian)捷，后者適(shi)用(yong)于(yu)測(ce)非平面的(de)(de)外形。更厚(hou)(hou)的(de)(de)致密材(cai)質材(cai)料要用(yong)超聲波測(ce)厚(hou)(hou)儀來測(ce)，測(ce)量的(de)(de)厚(hou)(hou)度可以達到0.7-250毫米。電解法(fa)測(ce)厚(hou)(hou)儀適(shi)合測(ce)量很細(xi)的(de)(de)線上面電鍍的(de)(de)金，銀(yin)等金屬(shu)的(de)(de)厚(hou)(hou)度。
兩用型
儀器由(you)德國生產，集合了磁性測(ce)厚儀和渦流(liu)測(ce)厚儀兩種儀器的功能，可用于(yu)測(ce)量鐵(tie)及非(fei)鐵(tie)金屬基體上涂層的厚度。如：
鋼鐵(tie)上(shang)的銅、鉻、鋅等電(dian)鍍層或油漆(qi)、涂料、搪瓷等涂層厚(hou)度。
鋁、鎂材(cai)料上陽極(ji)氧化膜的厚度。
銅、鋁(lv)、鎂、鋅等非鐵(tie)金屬(shu)材料上的(de)涂層(ceng)厚度。
鋁、銅、金等(deng)箔帶材及紙張、塑料膜(mo)的(de)厚度。
各種鋼鐵及非鐵金(jin)屬材料(liao)上熱噴涂層(ceng)的厚度。
儀器(qi)符(fu)合國家標準(zhun)GB/T4956和GB/T4957，可(ke)用于(yu)生產檢(jian)驗、驗收檢(jian)驗及質量監督檢(jian)驗。
儀器特點
采(cai)用雙(shuang)功能內置式探(tan)頭，自動識別(bie)鐵(tie)基或非鐵(tie)基體材(cai)料，并(bing)選擇相(xiang)應的測量方式進行**測量。
符合人體工(gong)程學(xue)設計的雙(shuang)顯示屏結構，可以在(zai)任何測(ce)量位置讀取測(ce)量數據。
采用手機菜單式(shi)功能選(xuan)擇方(fang)式(shi)，操作十分簡便(bian)。
可設定(ding)上下(xia)限值，測量(liang)結果超出或符合上下(xia)限數值時，儀器會發出相應的聲音或閃爍燈(deng)提示。
穩(wen)定性(xing)極高，通常不(bu)必校正便可長期使用。
技術規格
量程：0～2000μm,
電(dian)源：兩節(jie)5號電(dian)池
標準配置
常規型
對材料表面保護、裝飾形成的覆蓋層，如涂層、鍍(du)層(ceng)、敷層(ceng)、貼層(ceng)、化學生成膜(mo)等，在有關(guan)國家和國際標準(zhun)中稱為覆層(ceng)（coating）。
覆層厚(hou)度測(ce)量已成為加(jia)工工業、表(biao)面工程質量檢測(ce)的(de)重要(yao)一環，是產品(pin)達到優等質量標準的(de)必備手(shou)段。為使產品(pin)國(guo)際(ji)化，我國(guo)出(chu)口商品(pin)和涉外(wai)項目中，對(dui)覆層厚(hou)度有了明確的(de)要(yao)求。
覆層厚度的測(ce)量(liang)(liang)方法(fa)主要有(you)：楔切法(fa)，光截法(fa)，電解法(fa)，厚度差測(ce)量(liang)(liang)法(fa)，稱重法(fa)，X射(she)線熒光法(fa)，β射(she)線反向散射(she)法(fa)，電容法(fa)、磁性測(ce)量(liang)(liang)法(fa)及(ji)渦流測(ce)量(liang)(liang)法(fa)等。這些方法(fa)中前(qian)五種是有(you)損(sun)檢測(ce)，測(ce)量(liang)(liang)手(shou)段(duan)繁瑣，速度慢，多(duo)適(shi)用于(yu)抽樣檢驗(yan)。
X射線(xian)和β射線(xian)法是無接觸無損(sun)測量(liang)，但裝置復雜昂貴，測量(liang)范圍較小。因有(you)放射源(yuan)，使用(yong)者必須遵守(shou)射線(xian)防護規范。X射線(xian)法可測極薄鍍層(ceng)(ceng)、雙鍍層(ceng)(ceng)、合金鍍層(ceng)(ceng)。β射線(xian)法適合鍍層(ceng)(ceng)和底(di)材原子序號大于3的鍍層(ceng)(ceng)測量(liang)。電容法僅(jin)在(zai)薄導電體的絕緣覆層(ceng)(ceng)測厚(hou)時采(cai)用(yong)。
隨著技(ji)(ji)術的(de)(de)日益進步(bu)，特別是(shi)近年來(lai)引(yin)入微機技(ji)(ji)術后，采(cai)用(yong)(yong)磁性法和(he)渦流法的(de)(de)測(ce)厚儀(yi)向(xiang)微型、智能、多功能、高精度(du)(du)、實(shi)用(yong)(yong)化的(de)(de)方向(xiang)進了(le)一步(bu)。測(ce)量(liang)的(de)(de)分(fen)辨率(lv)已達0.1微米，精度(du)(du)可達到1%，有了(le)大幅度(du)(du)的(de)(de)提高。它(ta)適用(yong)(yong)范圍廣(guang)，量(liang)程寬、操作(zuo)簡便且價廉，是(shi)工業(ye)和(he)科研使用(yong)(yong)*廣(guang)泛的(de)(de)測(ce)厚儀(yi)器。
采用無損方法(fa)既不破(po)壞(huai)覆層(ceng)也不破(po)壞(huai)基(ji)材，檢(jian)(jian)測速度(du)快(kuai)，能使大量(liang)的檢(jian)(jian)測工(gong)作經濟地(di)進行。
影響因素
a基(ji)體(ti)金屬(shu)磁性質
磁(ci)(ci)性(xing)法測厚受基體金(jin)屬(shu)磁(ci)(ci)性(xing)變化(hua)的影響（在(zai)實(shi)際應用(yong)中，低碳鋼磁(ci)(ci)性(xing)的變化(hua)可以認為是輕微的），為了避免熱處理和冷加工因素(su)的影響，應使(shi)用(yong)與試(shi)件基體金(jin)屬(shu)具(ju)有相同性(xing)質(zhi)的標準片對(dui)儀器進行(xing)校準；亦可用(yong)待(dai)涂覆(fu)試(shi)件進行(xing)校準。
b基體金屬電性質
基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)(shu)的(de)電導率(lv)對(dui)測(ce)量有(you)影響，而基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)(shu)的(de)電導率(lv)與其材料成分及(ji)熱(re)處理方法有(you)關(guan)。使(shi)用(yong)與試件基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)(shu)具有(you)相同性(xing)質的(de)標準片對(dui)儀器進行(xing)校(xiao)準。
c基體(ti)金屬厚度
每一種儀(yi)器都有(you)一個(ge)基體金(jin)屬(shu)的臨(lin)界(jie)厚度(du)。大于(yu)這個(ge)厚度(du)，測量就不受基體金(jin)屬(shu)厚度(du)的影響。本儀(yi)器的臨(lin)界(jie)厚度(du)值(zhi)見附表1。
d邊緣效(xiao)應
本(ben)儀器(qi)對試件(jian)表(biao)面形狀(zhuang)的陡(dou)變敏感。因此在靠近試件(jian)邊緣或內轉角處進行測(ce)量(liang)是不可靠的。
e曲率
試(shi)件的曲(qu)(qu)率對測量(liang)有影響。這種影響總是(shi)隨著曲(qu)(qu)率半徑的減少明顯地(di)增大。因(yin)此，在(zai)彎曲(qu)(qu)試(shi)件的表面(mian)上(shang)測量(liang)是(shi)不可靠的。
f試件的變形
測頭會使軟覆蓋層試件(jian)變形，因此在這些試件(jian)上測出可靠的數據。
g表面粗糙度
基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對測量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗(cu)糙(cao)表面會引(yin)起系統誤差和(he)偶然誤差，每次測量時，在(zai)不(bu)同位置上應增加(jia)測量的次數(shu)，以(yi)克(ke)服(fu)這種偶然誤差。如(ru)果基(ji)體(ti)金(jin)(jin)屬粗(cu)糙(cao)，還必(bi)須在(zai)未涂(tu)覆的粗(cu)糙(cao)度相類似的基(ji)體(ti)金(jin)(jin)屬試件上取(qu)幾個(ge)位置校(xiao)對(dui)(dui)儀(yi)器的零點(dian)；或(huo)用對(dui)(dui)基(ji)體(ti)金(jin)(jin)屬沒有腐蝕(shi)的溶液溶解除去覆蓋層后(hou)，再校(xiao)對(dui)(dui)儀(yi)器的零點(dian)。
g磁場
周圍各種電氣設(she)備所產生的(de)強(qiang)磁場，會(hui)嚴重地干擾磁性法(fa)測厚(hou)工作。
h附(fu)著物質
本(ben)儀器(qi)(qi)對那些妨(fang)礙測頭(tou)與覆蓋層表面(mian)(mian)緊密接(jie)觸的附著(zhu)物質(zhi)敏感，因此，必須**附著(zhu)物質(zhi)，以保證(zheng)儀器(qi)(qi)測頭(tou)和被測試件(jian)表面(mian)(mian)直接(jie)接(jie)觸。
i測頭壓力
測頭置(zhi)于試件上(shang)所施加的壓(ya)力(li)(li)大小會影響測量的讀數，因(yin)此，要保(bao)持壓(ya)力(li)(li)恒(heng)定。
j測頭(tou)的取(qu)向
測頭的放置方式(shi)對測量有影響。在測量中，應當使(shi)測頭與試樣表面保持垂直(zhi)。
應(ying)當遵守的規定(ding)
a基體(ti)金屬特性
對(dui)于磁(ci)性方法(fa)，標準片的(de)基體金屬的(de)磁(ci)性和表面(mian)(mian)粗糙度(du)，應(ying)當與試(shi)件基體金屬的(de)磁(ci)性和表面(mian)(mian)粗糙度(du)相(xiang)似(si)。
對于(yu)渦流方法，標準(zhun)片(pian)基體金屬的電(dian)性質(zhi)，應當(dang)與試件基體金屬的電(dian)性質(zhi)相(xiang)似。
b基體金屬(shu)厚度
檢查基體(ti)金(jin)屬厚(hou)(hou)度是(shi)否超過(guo)臨界厚(hou)(hou)度，如果沒有，可采用(yong)3.3中的(de)某種方(fang)法進行(xing)校(xiao)準。
c邊緣(yuan)效應
不應在緊靠試件的突變處(chu)，如邊(bian)緣、洞和(he)內轉角等處(chu)進行(xing)測量。
d曲率
不應在試(shi)件(jian)的彎曲表面上測(ce)量。
e讀(du)數次數
通常(chang)由于儀器的每次讀(du)(du)數并不完全相同，因此(ci)必(bi)須在每一測(ce)量(liang)面(mian)積(ji)內(nei)取(qu)幾個讀(du)(du)數。覆蓋(gai)層厚度的局部差異，也要(yao)求在任一給定的面(mian)積(ji)內(nei)進行多次測(ce)量(liang)，表面(mian)粗造時(shi)更應如此(ci)。
f表面(mian)清潔度
測(ce)量前，應(ying)**表(biao)面(mian)上的任何(he)附著(zhu)物質，如塵土(tu)、油脂及腐蝕(shi)產物等，但(dan)不要(yao)除(chu)去任何(he)覆蓋(gai)層物質